В работе были получены результаты воздействия водных растворов перекиси водорода с концентрациями 10-8-10-4 М на поверхность двойной пленки Au-AgI и 10-10-10-8 М на поверхность пленки Au-Ag. Продемонстрировано влияние используемых концентрациий водного раствора перекиси водорода на условия возбуждения поверхностного плазмонного резонанса. Показано, что данная методика может быть применима для оценки малых концентраций перекиси водорода в водном растворе.
