В настоящей работе рассматриваются физико-химические основы фотополимеризации акрилатных композиций, применяемых в реставрационной стоматологии и материалах для моделирования ногтевой пластины, таких как гель-лаки, базы, топы и акригели. Проведен сравнительный анализ компонентного состава, типов инициирующих систем и кинетики отверждения. Особое внимание уделено эволюции составов: от классических пломбировочных материалов до высокотехнологичных гибридных систем в бьюти-индустрии. В статье представлены расчеты кинетических параметров фотополимеризации, включая скорость реакции и степень конверсии двойных связей. Рассмотрен механизм формирования трехмерной полимерной сетки и влияние различных факторов на процесс отверждения. Полученные результаты позволяют оптимизировать составы акрилатных композиций для повышения их эксплуатационных характеристик.
